• NASCIDOS

SOBRE NASCIDO
PRODUTOS

SHANGHAI DEBORN CO., LTD

A Shanghai Deborn Co., Ltd. atua no ramo de aditivos químicos desde 2013 e está localizada no Novo Distrito de Pudong, em Xangai.

A Deborn trabalha para fornecer produtos químicos e soluções para as indústrias têxtil, de plásticos, revestimentos, tintas, eletrônica, farmacêutica, de produtos para o lar e de cuidados pessoais.

  • Hexafenoxiciclotrifosfazeno

    Hexafenoxiciclotrifosfazeno

    Este produto é um retardante de chama livre de halogênio, utilizado principalmente em PC, resina PC/ABS, PPO, náilon e outros produtos. Quando utilizado em PC e HPCTP, a adição é de 8 a 10%, atingindo o grau de retardamento de chama FV-0. Este produto também apresenta bom efeito retardante de chama em resina epóxi e EMC, para a preparação de encapsulamento de circuitos integrados em larga escala. Sua resistência à chama é muito superior à dos sistemas tradicionais de retardamento de chama à base de fósforo-bromo.

  • Ácido 2-carboxitil(fenil)fosfínico

    Ácido 2-carboxitil(fenil)fosfínico

    Como um tipo de retardante de chamas ecológico, pode ser usado como modificação permanente de poliéster para retardar a chama, e a fiação do poliéster retardante de chamas é semelhante à do PET, podendo assim ser usado em todos os tipos de sistemas de fiação, com características como excelente estabilidade térmica, não se decompõe durante a fiação e não tem cheiro.

  • Retardador de chama DOPO-ITA(DOPO-DDP)

    Retardador de chama DOPO-ITA(DOPO-DDP)

    O DDP é um novo tipo de retardante de chama. Pode ser usado em combinação com outros copolímeros. O poliéster modificado apresenta resistência à hidrólise. Ele acelera a formação de gotículas durante a combustão, produz efeitos retardantes de chama e possui excelentes propriedades de retardamento de chama. O índice limite de oxigênio é T30-32 e a toxicidade é baixa.

  • Retardante de chama DOPO-HQ livre de halogênio e fosfato

    Retardante de chama DOPO-HQ livre de halogênio e fosfato

    Plamtar-DOPO-HQ é um novo retardante de chama livre de halogênios fosfatados, para resinas epóxi de alta qualidade, como as de PCB, substituindo o TBBA, ou para adesivos em semicondutores, PCBs, LEDs e outros. É um intermediário para a síntese de retardantes de chama reativos.

  • Retardantes de chama reativos não halogenados DOPO

    Retardantes de chama reativos não halogenados DOPO

    Retardantes de chama reativos não halogenados para resinas epóxi, que podem ser usados ​​em PCBs e encapsulamento de semicondutores. Agente anti-amarelamento em processos compostos para ABS, PS, PP, resina epóxi e outros. Intermediário de retardantes de chama e outros produtos químicos.

  • Fosfato de difenila cresil

    Fosfato de difenila cresil

    É solúvel em todos os solventes comuns e insolúvel em água. Possui boa compatibilidade com PVC, poliuretano, resina epóxi, resina fenólica, NBR e a maioria dos plastificantes, tanto monômeros quanto polímeros. O CDP apresenta boa resistência a óleos, excelentes propriedades elétricas, estabilidade hidrolítica superior, baixa volatilidade e flexibilidade em baixas temperaturas.